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Inkjet & Digitaldruck

Thieme stellt offene Entwicklungsplattform für Sieb- und Digitaldrucksysteme vor

Thieme stellt offene Entwicklungsplattform für Sieb- und Digitaldrucksysteme vor: Die neue Labormaschine Thieme LAB Digital bildet die Basis für unterschiedlichste industrielle Digitaldruckanwendungen.

Mittwoch 12. Februar 2014 - Der Druckmaschinenhersteller Thieme zeigt auf der Fachmesse InPrint 2014, die vom 8. bis 10. April in Hannover stattfindet, innovative Drucklösungen für die Industrie. Highlight am Messestand wird die Digitaldruckmaschine Thieme LAB Digital sein. Auf Basis dieses offenen Labordrucksystems lassen sich unterschiedlichste industrielle Anwendungen entwickeln und deren Produktionsparameter im Vorfeld optimal abstimmen.

Das Spektrum industrieller Druckanwendungen ist äußerst vielfältig – entsprechend flexibel müssen moderne Beschichtungslösungen sein. Deshalb bietet die im südbadischen Teningen beheimatete Thieme GmbH & Co. KG ihren Kunden nicht nur Standardmaschinen, sondern ermöglicht darüber hinaus eine anwendungsspezifische Entwicklung von Digital- und Siebdruckanlagen auf der Basis einer einheitlichen technischen Plattform. „Einzigartig an unserem Maschinenkonzept ist die hundertprozentige Industrietauglichkeit sowohl im Digital- als auch im Siebdruck“, betont Harry Götz, Produktmanager Digitaldruck bei Thieme. „Mit dieser technologieübergreifenden Entwicklungsplattform, die das Beste aus beiden Welten verbindet, haben wir eine echte Alleinstellung auf dem Markt des industriellen Drucks.“

Die auf der Messe vorgestellte Labormaschine Thieme LAB Digital steht für ein offenes Digitaldruck-Maschinenkonzept, das individuell auf die Kundenbedürfnisse zugeschnitten wird. Sowohl das Druckformat als auch die Transporttechnik sind variabel, hinzu kommen verschiedene Optionspakete – sogar die Kombination von Digital- und Siebdruckstationen zu einer Hybridmaschine ist möglich. „Jeder Kunde bekommt seine eigene Maschine“, bekräftigt Götz. Das innovative Digitaldrucksystem ist für Single- und Multipassanwendungen geeignet und zeichnet sich durch eine hochpräzise Lineartechnologie sowie eine variable Druckkopfanordnung aus. Die Substratdicke (max. 50 mm) ist programmierbar.

Sicheres Scale-up von der Labor- zur Produktionsmaschine
Interessierte Fachbesucher können sich auf dem Thieme-Messestand von der Vielseitigkeit der neuen Thieme-Maschinenplattform – beispielsweise hinsichtlich druckkopfspezifischer Parameter (z. B. Wave Forms, Auflösungen, Druckmodi) oder Ausrüstungsoptionen (z. B. Tischvakuum, Druckformate, Substratdicken) – überzeugen. Das Anlagenkonzept bildet ferner die Möglichkeit zur Evaluierung von Tintensystemen, wobei alternativ zur UV-Trocknung auch andere Trocknungssysteme wie IR oder LED integrierbar sind. Auf der Thieme LAB Digital werden Mustersubstrate bedruckt, deren Qualität gleich vor Ort begutachtet und besprochen werden kann.

Da die Labormaschine die gleiche Ansteuerung wie die auf ihrer Basis entwickelten Produktionsmaschinen besitzt, lassen sich kundenspezifische Druckparameter eins zu eins in eine spätere Produktionsmaschine übernehmen. „Als einziger Hersteller ermöglicht Thieme die Implementierung der kundenseitigen Entwicklung in industrielle Beschichtungssysteme“, beschreibt Harry Götz die Thieme-Produktstrategie. „Somit können unsere Kunden sicher sein, dass der Schritt vom Labor zur Produktion nicht in eine Sackgasse führt.“

Das neue Digitaldrucksystem ist vom 8. bis 10. April am Thieme-Stand auf der InPrint 2014, der Fachmesse für innovative Drucktechnologie in der industriellen Fertigung, zu sehen (Messe Hannover, Halle 21, Stand D 36).

Am Donnerstag, 10. April 2014 um 10:30 Uhr referiert Harry Götz, Produktmanager Digitaldruck bei Thieme, zum Thema „Komplementärtechnologien Siebdruck und Digitaldruck im industriellen Umfeld – das Beste aus zwei Welten“.

www.thieme.eu
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